QCL-LAS-N2O量子級(jí)聯(lián)激光笑氣分析儀|激光一氧化二氮分析儀|激光氧化亞氮分析儀

   量子級(jí)聯(lián)激光器(Quantum Cascade Laser, QCL)的工作原理與通常的半導(dǎo)體激光器截然不同，它打破了傳統(tǒng)p-n結(jié)型半導(dǎo)體激光器的電子-空穴復(fù)合受激輻射機(jī)制，其發(fā)光波長(zhǎng)由半導(dǎo)體能隙來(lái)決定。QCL受激輻射過(guò)程只有電子參與，其激射方案是利用在半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)薄層內(nèi)由量子限制效應(yīng)引起的分離電子態(tài)之間產(chǎn)生粒子數(shù)反轉(zhuǎn)，從而實(shí)現(xiàn)單電子注入的多光子輸出，并且可以輕松得通過(guò)改變量子阱層的厚度來(lái)改變發(fā)光波長(zhǎng)。

  量子級(jí)聯(lián)激光器QCL比其它激光器的優(yōu)勢(shì)在于它的級(jí)聯(lián)過(guò)程，電子從高能級(jí)跳躍到低能級(jí)過(guò)程中，不但沒(méi)有損失，還可以注入到下一個(gè)過(guò)程再次發(fā)光。

QCL-LAS-N2O量子級(jí)聯(lián)激光笑氣分析儀顯著優(yōu)點(diǎn)

• 無(wú)交叉干擾，抽取式測(cè)量
• 低吸附
• 無(wú)冷凝形成
• 選擇性，連續(xù)、實(shí)時(shí)測(cè)量
• 快速響應(yīng)，無(wú)交叉干擾
• 低檢出下限，免校準(zhǔn)
• 免維護(hù)
• 長(zhǎng)壽命
• 抗腐蝕
• 長(zhǎng)期信號(hào)穩(wěn)定性
• 無(wú)消耗品

QCL-LAS-N2O量子級(jí)聯(lián)激光笑氣分析儀應(yīng)用

• 工作臺(tái)**
• 產(chǎn)品包裝
• 包裝機(jī)械/隔離裝置
• 過(guò)濾機(jī)械裝置
•  潔凈間
• 制藥和化學(xué)工業(yè)
• 衛(wèi)生工程和醫(yī)院
• 食品和飲料行業(yè)
• 實(shí)驗(yàn)室、潔凈室和材料鎖
• 空調(diào)和通風(fēng)系統(tǒng)的凈化

QCL-LAS-N2O量子級(jí)聯(lián)激光笑氣分析儀技術(shù)參數(shù)

環(huán)境溫度:  10…35°C (非冷凝)

進(jìn)口壓力:  800…1,100 mbar

流量:   ≤ 1.5l/min（QCL-LAS-N2O）;1.0l/min（QCL-LASmini-N2O, hot）

通訊接口:   Modbus TCP/IP; 4...20 mA模擬量輸出

外形尺寸(L x W x H) ：567 x 485 x 221 mm（QCL-LAS-N2O）;  390 x 483 x 176 mm（QCL-LASmini-N2O,hot）

重量 (approx.)：19 kg（QCL-LAS-N2O）; 13 kg（QCL-LASmini-N2O,hot）

供電電壓：100 – 240 V AC, 50 / 60 Hz
傳感器加熱：190 °C（QCL-LASmini-N2O,hot）
用戶界面：7" LCD (電容觸摸屏)

QCL-LAS-N2O激光笑氣分析儀性能指標(biāo)

測(cè)量范圍 (FS)

QCL-LAS-N2O:            Min.:   0...10 ppm    max.:  0...1000 ppm

QCL-LASmini-N2O, hot :    Min.:  0...100 ppm    max.:  0...10000 ppm

檢出下限(LOD)* @ t10-t90 ≤ 10s

QCL-LAS-N2O:  ≤ 5ppb (3σ,100s)

QCL-LASmini-N2O,hot:  ≤ 0.2 ppm (3σ,100s)

線性 (取*大值)

QCL-LAS-N2O: ≤ ± 0.05 ppm 或 ± 1% 測(cè)量值

QCL-LASmini-N2O, hot : ≤ ± 2 ppm 或 ± 1% 測(cè)量值

精度(取*大值)

QCL-LAS-N2O: ≤ ± 0.05 ppm 或 ± 1% 測(cè)量值

QCL-LASmini-N2O, hot : ≤ ± 2 ppm 或 ± 1% 測(cè)量值

零點(diǎn)漂移: ≤ LOD in 10 h

滿程漂移: ≤ ± 0.5 % FS in 10 h

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ProCeas^®是一個(gè)完整的預(yù)校準(zhǔn)多組分（CH4、CO、CO2、H2、H2O、HCI、HCN、HF、N2O、NH3、O2）氣體激光紅外光譜儀分析ProCeas使用獲得磚利的OFCEAS（WO 03031949）紅外激光技術(shù)，以增強(qiáng)特異性、選擇性、準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性（無(wú)儀器響應(yīng)漂移）。ProCeas激光痕量氣體分析儀采用磚利低壓取樣系統(tǒng)（WO 2010058107），由于無(wú)加熱管線和減少維護(hù)，因此安裝成本低。ProCeas激光痕量氣體分析儀是一種可靠、可靠、低成本和易于使用的氣體分析解決方案。

AP2E公司激光痕量氣體分析儀ProCeas^®技術(shù)參數(shù)

技術(shù)參數(shù)
氣體	量程a		LODb *低檢出限
	zui小（Min.）	zui大(Max.)	zui小(Min.)	zui大(Max.)
HCHO 甲醛	10ppm	1%	2ppb	10ppm
H2S 硫化氫	50ppm	10%	2ppb	100ppm
CH4 甲烷	50ppm	100%	1ppb	1000ppm
CO 一氧化碳	100ppm	100%	1ppb	1000ppm
CO2 二氧化碳	1% vol.	100%	2ppm	1000ppm
H2 氫氣	5% vol.	100%	3ppm	1000ppm
H2O 水汽	1000ppm	100%	5ppb	1000ppm
HCI 氯化氫	5ppm	100%	1ppb	1000ppm
HCN 氰化氫	10ppm	100%	1ppb	1000ppm
HF 氟化氫	10ppm	1%	1ppb	1000ppm
N2O 笑氣	50ppm	100%	2ppb	1000ppm
NH3 氨氣	50ppm	100%	1ppb	1000ppm
O2 氧氣	1000ppm	100%	100ppb	1000ppm
NO 一氧化氮	5000ppm	100%	100ppb	1000ppm
NO2 二氧化氮	100ppm	100%	10ppb	1000ppm